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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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저온 플라즈마 발생과 응용
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2008 .10
저온플라즈마 처리가 발포체의 특성에 미치는 영향
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2005 .12
Etching Characteristics and Mechanism of Low Temperature Deposited Silicon Nitride Film Using Inductively Coupled CH2F2/O2/Ar Plasma
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2013 .11
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2008 .01
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연속식 저온 plasma 처리기술의 현황
한국염색가공학회지
1998 .04
상압 플라즈마 표면처리에 의한 고분자 재질의 접착특성 변화
대한기계학회 춘추학술대회
2010 .05
F51강의 저온 플라즈마 침탄처리시 표면특성에 미치는 공정변수의 영향
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저압 및 대기압 플라즈마 처리를 통한 폴리카보네이트의 접촉각 변화특성 비교
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2010 .01
상압 플라즈마 표면처리에 의한 고분자 재질의 접착특성 변화
대한기계학회 논문집 B권
2011 .05
Ar Ion Beam 처리를 통한 Organic Thin Film Transistor의 성능향상
전자공학회논문지-SD
2007 .11
Ar/$O_2$ 플라즈마를 이용한 PC의 표면형상 특성
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
플라즈마 표면처리에 따른 고분자절연재료용 유리섬유의 표면개질
전기학회논문지 C
2003 .05
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