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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2014.6
- 수록면
- 350 - 353 (4page)
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In this paper, using a patterned poly(dimethylsiloxane) (PDMS) mold, poly(1H,1H,2H,2H-perfluorodecyl methacrylate) polymer (PFDMA) films is selectively deposited on a glass substrate. Ag nanowire dispersed in isopropyl alcohol can be coated on a glass substrate without damaging the patterned PFDMA films because there is no reaction between PFDMA and isopropyl alcohol. After coating, the substrate was dipped into a hydrofluoroethers solvent with sonication and 25um line and space patterns of Ag nanowire can be fabricated by a lift-off process.
목차
Abstract
I. 서론
II. 본론
Ⅲ. 결론 및 향후 연구 방향
참고문헌
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