지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
초록· 키워드
오류제보하기
일련의 국부영역으로부터 이차미분값을 획득하여 전체 형상을 복원하는 측정법을 제안하였다. 측정시 기울기가 제거된 국부형상에 대해 곡률과 이차미분이 동일시 되는 점을 이용하여, 3개의 이차미분값으로부터 직교하는 2방향을 따라 3차원형상을 복원할 수 있는 알고리즘을 구현하였다. 임의로 발생시킨 Zernike다항식의 계수로 자유곡면형상을 생성시키고, 구현된 알고리즘을 적용함으로써 검증과정을 수행하였다. 적용한 결과 최대 0.8 mm Sag를 갖는 직경 200 mm영역의 자유곡면형상에 대해 RMS 19 nm 형상복원오차를 갖고 복원됨을 확인하였다. 측정오차에 대한 복원오차 민감도를 진단하기 위해 SNR(Signal-to-Noise Ratio) 16의 가우시언 랜덤 노이즈를 부여한 후, 복원되는 형상의 오차를 진단한 결과, 197 nm의 형상복원오차가 발생함을 확인하였다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 형상이차미분을 이용한 3차원형상 복원법
Ⅲ. 자유곡면 형상복원 결과
Ⅳ. 형상복원법의 노이즈 민감도 진단
Ⅴ. 결론
References
참고문헌 (14)
참고문헌 신청
B. C. Kim / 2009 / 3-D shape measurement using curvature data / Proc. SPIE 7389:73892H~73898H
P. E. Glenn / 1990 / Angstrom level profilometry for submillimeter to meter scale surface errors, in Advanced Optical Manufacturing and Testing / Proc. SPIE 1333:326~336
P. E. Glenn / 1992 / Lambda-over-one-thousand metrology results for steep aspheres using a curvature profiling technique, in Advanced Optical Manufacturing and Testing II / Proc. SPIE 1531:61~64
P. Thomsen-Schmidt / 2000 / A facility for the curvature-based measurement of the nanotopography of complex surfaces, in Optical Devices and Diagnostics in Materials Science / Proc. SPIE 4098:94~101
I. Weingartner / 2001 / Measurement of steep aspheres: A step forward to nanometer accuracy, in Optical Metrology for the Semiconductor, Optical, and Data Storage Industries II / Proc. SPIE 4449:195~204
P. E. Glenn / 1990 / Angstrom level profilometry for submillimeter to meter scale surface errors, in Advanced Optical Manufacturing and Testing / Proc. SPIE 1333:326~336
P. E. Glenn / 1992 / Lambda-over-one-thousand metrology results for steep aspheres using a curvature profiling technique, in Advanced Optical Manufacturing and Testing II / Proc. SPIE 1531:61~64
P. Thomsen-Schmidt / 2000 / A facility for the curvature-based measurement of the nanotopography of complex surfaces, in Optical Devices and Diagnostics in Materials Science / Proc. SPIE 4098:94~101
I. Weingartner / 2001 / Measurement of steep aspheres: A step forward to nanometer accuracy, in Optical Metrology for the Semiconductor, Optical, and Data Storage Industries II / Proc. SPIE 4449:195~204
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
최근 본 자료
댓글(0)
0