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Synthesis and Characterization of Photosensitive polymers Containing Naphthoquinonediazide
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1994 .04
SYNTHESIS AND PROPERTIES OF NOVOLAK RESIN
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .04
Photoresist 용 Novolak Resin 의 특성 (Ⅱ)
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .10
Syntheses of Photosensitive Polymers Containing Oxime Groups and Their Photosensitive Characteristics
한국섬유공학회 학술발표논문집
1987 .01
Syntheses and Properties of Photosensitive Polyimides : Ⅰ. Effect of Structure on Photosensitive Property
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .04
NOVOLAK BASED POSITIVE X-RAY RESIST WITH CHEMICAL AMPLIFICATION
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .04
Synthesis and Characterization of a Photosensitive LC Alignment Layer with Four Different Photosensitive Groups
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2006 .04
감광성 고분자 : 반응과 응용
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1986 .10
감광성 고분자 : 반응과 응용
폴리머
1986 .10
m - , p - 크레졸 / 포름알데히드 노볼락 수지의 합성과 물성에 관한 연구
폴리머
1992 .11
Novolak 계열과 Epoxy 계열의 고분자를 이용한 새로운 multi layer 패턴 형성 방법
대한전자공학회 학술대회
2006 .06
Synthesis and Characterizations of Novel Photosensitive Compounds
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2007 .04
화상 감광재료의 개발에 관한 연구 ( Studies on the Imaging Photosensitive Materials )
전자공학회지
1986 .01
PS 판용 1,2-Naphthoquinone-(2)diazide-5-sulfonic Acid Ester Derivatives의 합성 및 응용
공업화학
1999 .01
Positive-Type Photosensitive Polyimide Based on a Photobase Generator Containing Oxime-Urethane Groups as a Photosensitive Compound
Macromolecular Research
2006 .06
Synthesis and Properties of Photosensitive Polyimides
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1993 .10
Novel Photosensitive Polyimide with Good Transparency
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .04
Naphthoquinone -1,2- Diazide -5- Sulfonamide 의 합성과 감광특성에 관한 연구
폴리머
1980 .01
Synthesis of Colorless and Transparent Photosensitive Polyimide
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2004 .10
Synthesis and Characterization of Positive Photosensitive Polyimide
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
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