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The objective of this work was to study the properties of purification of two liquid phase for exclusion of impurities in each phase. The experiments for process variables were carried out in the temperature range(H_{2}SO_{4} phase: 413{sim}513 K, HI_{x} phase: 353{sim}453 K) and in the N_{2} flow rate range(H_{2}SO_{4}, HI_{x} phase: 50{sim}200 mL/min). As the results, it is appeared that the principles of H_{2}SO_{4} phase purification was due to stripping, evaporation and reverse bunsen reaction and HI_{x} phase purification was due to stripping and reverse bunsen reaction. In purification of H_{2}SO_{4} phase, the concentration rate of H_{2}SO_{4} phase was controled by temperature but the temperature had few effects on yield of H_{2}SO_{4}. In purification of HI_{x} phase, we observed products of side reactions(H_{2}S, S) over 433 K. The purity of HI_{x} phase was increased with increasing N_{2} flow rate because impurites were decreased with increasing conversion of reverse reaction.

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