Dry-developable Photoresist

김진백 ,  김현우 ,  김재영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

Preparation of Poly(phenylene oxide-g-styrenesulfonic acid sodium salt) and Their Characterization for DMFC Membrane

장혜영 ,  조창기 ,  유영규 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

A Study on method of designing developable surface

Ji-xin YANG ,  Zhe LIU ,  Jian LIU

한국멀티미디어학회 국제학술대회

2006 .07

Base Developable Photoresists Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전 ,  장지영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .04

A Study on the Role of -SO₃^- Ions in the Dehydration Limit of Poly(styrene-co-styrenesulfonic acid) Membrane

Ko ,  Kwang-Hwan ,  Kim 외 3명

Elastomers and composites

2017 .01

Poly(styrene-co-methacrylic acid-co-styrenesulfonic acid) copolymer 합성

소인섭 ,  김준섭

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2014 .10

Morphology Control of Poly(phenylene oxide)by lonomeric Poly(styrenesulfonic acid sodium salt)Copolymers for Fuel Cell Membrane

유영규 ,  조창기 ,  금창헌

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

A Study on the Distribution Behavior of Radiation-grafted Poly(styrenesulfonic acid) in PFA Membranes

고범석 ,  강성아 ,  Geng Fei 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2008 .10

Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구

장현기 ,  김용권

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

Molecular Structure of Poly(phenylene oxide-g-styrenesulfonic acid) and the Conductivity and Methanol Permeability of the Membrane

Chang Gi Cho ,  Young Gyu You ,  Hye Young Jang

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Lithographic Performance of a Dry-developable Photoresist Based on the Methacrylate Polymer with 2-Trimethylsilyl-2-propyl ester Protecting Group

김진백 ,  김현우

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .04

A study on polymer electrolyte membrane from di(ethylene glycol) dimethacrylate and styrenesulfonic acid

박인경 ,  김창근

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2008 .10

Graphene/Carbon Nanotube/Poly(styrenesulfonic acid-g-aniline) Composite for Supercapacitor Electrode

이진우 ,  조원호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2015 .10

Synthesis of Imide Monomers for Application to Organic Photosensitive Interdielectric Layer

Kwon ,  Hyeok-Yong ,  Vu 외 6명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2008 .01

Synthesis of Poly (styrene-b- styrenesulfonic acid sodium salt) and Poly(styrene-b-styrene) by ATRP in polar/non polar solvent

Soo Youn Pa ,  k ,  Chang Gi Cho

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Direct Exfoliation of Graphene Using Poly(styrenesulfonic acid graft aniline)as a Surfactant and Its Application to Supercapacitor Electrode

이진우 ,  조원호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2015 .04

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06