지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Alicyclic Polymers Based on t-BOC-Dinorbonene as Resists Materials
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .04
The Synthesis of Norbornene Derivatives and Polymerization
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .10
ArF용 레지스트에 사용 가능한 Alicyclic group을 함유한 공중합체의 합성
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .10
ArF Single Layer Resist Composed of Alicyclic Main Chain Containing Maleic Anhydride
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Alicyclic group을 함유한 ArF excimer laser용 감광성 수지의 합성
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
Synthesis of Norbornene Derivatives and Their Addition Polymerizations
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .04
Synthesis and Evaluation of a Novel Alicyclic Polymer Having 7,7-Dimthyloxepan-2-one Acid Labile Group for 193-nm Photoresists
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2001 .10
Patterned Fluorescence Images with a t-Boc-Protected Coumarin Derivative
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2004 .04
Adhesion-promoted copolymers based on copolymers of norbornene derivatives and maleic anhydride for 193-nm photoresist
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
BOC 신호 동기화를 위한 새로운 주변 첨두 제거 기법
한국통신학회논문지
2009 .01
Patterned Fluorescence Images with a t-Boc-Protected Coumarin Derivative
Macromolecular Research
2004 .12
Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2006 .10
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
Terpolymer of Maleic Anhydride and Cycloolefin Derivatives as an ArF Photoresist
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .04
Mechanical properties of norbornene-based nanocomposites incorporated with norbornene functionalized multi-walled carbon nanotubes
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2014 .10
Patterned Fluorescence Images with a t-Boc Protected Precursor
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2009 .10
esterifications of 5-norbornene-2-2carboxylic acid and polymerizations of norbornene esters
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2013 .04
Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Synthesis and Characterization of Alicyclic Polymers with Hydrophilic Groups for 193-nm Single-Layer Resist
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
0