Practical Implementation of Top-surface Imaging Process by Silylation to sub-0.20 μm Lithography

박병준 ,  백기호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

실릴화 / 습식 현상을 이용한 새로운 미세 패턴 형성법 ( New-Fine Patterning Method of Positive Photo Resist by Silylation / Wet Develop )

김주태 ,  장태호 ,  김현배 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .01

Silylation Photo resist 공정과 Enhanced-Inductively Coupled Plasma(E-ICP)

정재성 ,  박세근 ,  오범환

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

다공성 실리카의 silylation 개질을 이용한 유기자외선 차단제 안정화 기술

공수성 ,  홍원기 ,  김동명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2013 .04

미세패턴형성 공정을 이용한 유기전자소자 기술 동향

신상일 ,  정명호 ,  김영민 외 1명

인포메이션 디스플레이

2008 .01

자가치유성을 갖는 고분자개질 방수아스팔트-몬모릴로나이트 composite 제조: 2. 3-aminopropyltriethoxysilane에 의한 몬모릴로나이트(K-10)의 실란화 최적화 검증

이은주 ,  이종훈 ,  임광희

화학공학

2017 .01

Improved Top Surface Imaging Process for High Aspect Ratio Patterns

우승아 ,  박지영 ,  김수민 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2009 .10

대영역 미세패턴 형상 검사기술

김승우 ,  김영식 ,  오정석

대한기계학회 춘추학술대회

2004 .11

Positive-Tone E-Beam Lithography with Surface Silylation of Negative-Tone Commercial Photoresists SAL 601 and AZPN 114

Evangelia Tegou ,  Evangelos Gogolides ,  Panagiotis A 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

자가치유성을 갖는 고분자개질 방수아스팔트-몬모릴로나이트 composite 제조: 1. 3-aminopropyltriethoxysilane에 의한 몬모릴로나이트(K-10)의 실란화 특성 및 XRD 분석의 기준에 따른 최적화

이은주 ,  이종훈 ,  박유진 외 2명

화학공학

2017 .01

0.25μm급 Positive Tone Top Surface Imaging 공정에 대한 연구 ( Positive Tone Top Surface Imaging Process for 0.25μm Lithography )

이중현 ,  박정철 ,  박춘근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

광집적을 위한 레이저 홀로그래피 시스템의 제작 및 미세패턴 ( ∼0.3μm ) 의 형성

김태근 ,  김무성 ,  박정호 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

광효율 향상을 위한 렌즈표면 미세패턴에 관한 연구

김장윤 ,  노명재 ,  현동훈 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2011 .06

초임계이산화탄소를 이용한 플라즈마 손상된 다공성 저유전 막질의 복원

정재목 ,  임권택

청정기술

2010 .09

“패턴 인식” 특집을 내면서

오세영 ,  이성환

정보과학회지

1993 .10

미세탐색을 이용한 빔패턴의 최적화

장병건 ,  전창대

한국음향학회 학술발표대회

2000 .01

미세 패턴 형성을 위한 공정 약품 및 표면처리 기술

김익범

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2016 .05

대면적 미세형상의 초정밀/지능화 가공시스템

박천홍 ,  이후상

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2004 .10