반도체공정에서 사용되는 화학물질의 반응위험성 평가

Q: 이 논문에서 정의한 화학물질 혼합 위험성이란 무엇인가?

반도체 제조 공정에서 사용되는 SEMI 코드 분류 화학물질들이 서로 혼합되었을 때 발생할 수 있는 반응 가능성과 그로 인한 위험 수준을 의미한다. 이는 CHETAH 및 CRW 프로그램을 통해 예측 및 평가되며, 화학물질의 안전한 보관과 취급을 위한 핵심 지표로 활용된다.

Q: 반도체 산업 내 화학물질 혼합 위험성을 평가하는 방법과 그 효과는 무엇인가?

연구 결과, ASTM의 CHETAH와 NOAA 및 EPA의 CRW 프로그램을 활용하여 SEMI 코드 기반 화학물질의 혼합 반응 위험성을 정밀하게 예측할 수 있다. 따라서 이러한 분석 정보는 현장의 화학물질 사고를 예방하고 안전한 작업 환경을 조성하는 데 기여한다.

이근원

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 이근원 (한국산업안전보건공단)

저널정보: 한국가스학회 한국가스학회 학술대회논문집 2015년도 춘계학술발표회 논문집

발행연도: 2015.7

수록면: 5 - 5 (1page)

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반도체는 다양한 단위공정으로 구성된 웨이퍼가공 및 조립의 과정을 통해 만들어지며 각공정에서는 많은 화학물질과 다양한 설비들을 사용하고 있다. 반도체는 반도체의 기본재료인 웨이퍼(Wafer) 제조 사업장과 웨이퍼를 사용하여 반도체를 생산하는 웨이퍼 제조 (Fabrication) 사업장, 그리고 이렇게 생산된 반도체를 조립하는 사업장으로 나누어진다. 반도체 제조공정은 공통적으로 다음 6개의 주요 공정 즉, 산화(Oxidation), 광학현상(Lithography), 식각(Etching), 도핑(Doping), 화학증착(Chemical vapor deposition), 및 금속화(Metalization)공정으 ... 전체 초록 보기

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