O₂ 플라즈마 처리에 따른 용액 공정 기반 ITZO 박막 트랜지스터의 문턱전압 연구

김상섭; 최병덕

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김상섭 (성균관대학교) 최병덕 (성균관대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제49회 하계정기학술대회초록집

발행연도: 2015.8

수록면: 151 - 151 (1page)

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2015

O₂ 플라즈마 처리에 따른 ITZO 박막의 표면 및 광학적 특성 연구

김상섭 , 최병덕 한국진공학회 학술발표회초록집 2015.08 학술대회자료

O₂ 플라즈마 처리에 따른 용액 공정 기반 ITZO 박막 트랜지스터의 문턱전압 연구

김상섭 , 최병덕 한국진공학회 학술발표회초록집 2015.08 학술대회자료

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#ITZO #용액 공정 #XPS #oxygen vacancy #산소 결합 결함

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김상섭

소속기관 인하대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

논문수 60 이용수 3,479

Byoung-deog Choi

소속기관 성균관대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학 TOP 5% 공학 > 전기전자공학 > 전자공학

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ITZO 박막 트랜지스터의 In 비율과 열처리에 따른 전기적 특성

김상섭 , 최병덕 한국진공학회 학술발표회초록집 2014 .08

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