반도체 공장의 유해인자 노출 실태 : 일부 화학물질과 극 저주파 중심 :일부 화학물질과 극 저주파 중심

웨이퍼 가공 및 칩 제조 공정에서 발생하는 유기 화합물을 의미한다. 이는 반도체 제조 과정 중 작업 환경 내에서 발생하며, 근로자의 건강 보호를 위해 작업 환경 내 농도를 정밀하게 측정하고 관리하는 것이 매우 중요한 유해인자로 정의된다.

연구 결과, 개별 유해인자의 노출 수준은 기준치 미만이었으나 간헐적 과다 노출과 화학물질 및 극 저주파의 상승작용 위험이 확인되었다. 따라서 위험 직무, 공정, 장비에 근거한 메트릭스 기반의 통합적 감시체계를 구축하여 관리하는 것이 필요하다.

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저자정보: 박동욱 (한국방송통신대학교) 윤충식 (서울대학교) 최상준 (대구 가톨릭대학교) 하권철 (창원대학교) 김승원 (대구계명대학교) 김원 (원진노동환경연구소)

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