스퍼터 ITO박막의 제조 공정 이해 및 활용

송풍근

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자료유형: 학술저널

저자정보: 송풍근 (부산대학교)

저널정보: 한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제50권 제2호

발행연도: 2017.4

수록면: 55 - 71 (17page)

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Transparent Conductive Oxide (TCO), especially Indium Tin Oxide (ITO) films are almost prepared by DC magnetron sputtering because of the advantage of obtaining homogeneous large area coatings with high reproducibility. The purpose of this report is describe a detailed investigation of key factors dominating electrical and structural properties of sputtered ITO films. It was confirmed that crystallinity and electrical properties of ITO films were strongly depend on the sputtering pressure and kinetic energy of sputtered particles which are expected to have a close relation with the transport processes between target and substrate. And also, nodule formation on the ITO target was suppressed by both CaCO₃ addition and decreasing micro-pore in the target. On the other hand, we focused on the characteristics of amorphous TCO film to use as transparent electrode for various applications. To realize high thermoelectric performance, it was tried to control both high electrical conductivity and low thermal conductivity for the amorphous IZO:Sn films.

#Magnetron sputtering #ITO films #Amorphous TCO #Thermoelectric property

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Hamberg and C.G. Granvist, J. Appl. Phys. 60 (1986) R 123. H. Koh. K. Sawada, M. Ohgawara, T. Kuwata, H. Tubota, M. Akatsuka and M. Matsuhiro, SID Dig. Tech. Pap. (1988) p.53 E. Ando, K. Kawakami, K. Matsuhiro and Y. Masuda, Displays Jpn. (1986) 3. P.K. Song, Y. Shigesato, Itraru Yasui Cleva Wow- Yang, David C Paine, J. Appl. Phys. 37 (1998) 4A P. K. Song, Y. Shigesato, M. Kamei and I. Yasui, J. Appl. Phys. 38 (1999) 5A

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