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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2018.2
- 수록면
- 336 - 336 (1page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (5)
2018
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.08
학술대회자료
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.08
학술대회자료
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.02
학술대회자료
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.02
학술대회자료
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2019 .08
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한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
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한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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Carbon letters
2017 .01
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Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
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A Study of the Change in the Magnetic Anisotropy Depending on Deposition Conditions of Pt/Co/HfO thin Films
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2024 .05
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한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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