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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
백승현 (Kumoh National Institute of Technology) 권승갑 (Kumoh National Institute of Technology) Liyana Hazawani Biniti Zamri (Kumoh National Institute of Technology) 강인구 (Kumoh National Institute of Technology) 강봉철 (Kumoh National Institute of Technology)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조학회지 Vol.28 No.1
발행연도
2019.2
수록면
37 - 41 (5page)
DOI
10.7735/ksmte.2019.28.1.37

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Silicon is used as an essential material in the electronic and energy industries owing to its high accessibility and inherent semiconducting properties. Typically, silicon devices are produced by top-down chemical etchings, such as anisotropic etching and reactive ion etching, to make micropatterns and surface textures. In addition, doping using thermal diffusion or ion implantation is also required to optimize electrical characteristics. We propose a one-step method for fabricating multi-scale silicon layer based on the concurrent interaction of doping of silver nanoparticles during laser-induced sintering of silicon nanocrystals. The silver-doped silicon patterns were characterized by a uniform distribution and the concentration of dopants was easily adjustable by controlling the relative amount of silver nanoparticles. We expect that this method will contribute to fabricating multi-scale silicon semiconductors without using complicated chemical and vacuum processes.

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (18)

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