특허자료를 이용한 중국으로의 지식 확산 경로 분석 연구

이지홍

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자료유형: 연구보고서

저자정보: 이지홍

저널정보: 대외경제정책연구원 [KIEP] 연구자료 연구자료 제18권 제7호

발행연도: 2018.12

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21세기에 들어 국제 경제에서 가장 주목받고 있는 현상으로 중국 경제의 성장을 꼽을 수 있다. 이를 계기로, 본 논문은 중국으로의 지식 전파가 어떤 경로로 이루어졌는지 살펴보고자 하였다. 중국의 경제 발전이 이루어졌던 여러 측면들 중 특히 중국의 혁신에 주목하였으며, 중국이 어떻게 해외의 선진기술을 흡수했는지에 중점을 두었다. 선도적인 위치에 있는 첨단기술에 관한 혁신을 분석하기 위하여 본 논문에서는 미국 특허청에서 출원된 실용특허를 고려하였다. Kwon, Lee, and Lee(2017)와 이지홍, 임현경, 정대영(2018) 등의 연구에서 지적된 것처럼, 중국 소재 발명가들에게 미국 특허청에서 부여한 특허의 수는 2000년대 이후 급격히 증가했다. 이는 근 몇 년 사이 기술 개척의 모방자(follower)에서 선구자(leader)로 탈바꿈한 두 국가, 한국과 대만의 1990년대 특허 출원 양상과 비슷하다. 따라서 최근 20여 년 동안 미국에서 출원된 중국 특허를 분석하는 것은 미래의 중국 경제가 어떤 역할을 맡을지 예측하는 데 도움을 줄 것으로 기대한다. 본 논문은 큰 틀에서 Hu and Jaffe(2003)의 연구를 따라 일본, 한국, 대만으로부터 중국으로 흘러간 지식 확산의 양상을 다루었다. 세 국가들은 모두 세계적으로 혁신을 선도하고 있으며 비슷한 산업군에서 서로 경쟁 중이다. 또한 이 국가들은 중국에 인접해 있기 때문에, 물리적인 거리가 지식 전파에 미치는 영향으로부터 자유로운 비교가 가능하다. 본 논문에서는 국가간 특허의 개수를 통제한 결과, 중국의 발명가들이 대만, 한국, 일본 순으로 특허를 많이 인용했음을 볼 수 있었다. 대만에 대한 의존도는 중국의 특허가 성장하기 시작한 2000년대 초반에 특히 두드러졌다. 중국의 지식 생산에서 대만 기술의 중요성은 감소하는 추세에 있으나 한국보다는 여전히 앞서 있다. 산업별로 특허의 개수를 통제하여 국가별로 비교해보면, 대만, 한국, 일본이 중국에 미친 영향을 보다 구체적으로 확인할 수 있다. 대만은 전기·전자 산업, 기계 산업, 그리고 기타 산업 분야에서 중국의 지식 생산에 큰 영향을 주고 있는 것으로 나타났다. 한국 특허의 경우 2000년대 중반 이후로 중국의 화학 산업, 컴퓨터·통신 산업 분야에서 많이 인용되었고, 기계 산업과 제약·의료 산업 분야에서는 적게 인용되었다. 한편 일본의 특허가 미친 영향은 전반적으로 제한적이었다. 본 연구는 추가적으로 다른 국가들의 특허 시장과 중국 특허 시장의 구조를 비교하였다. 특히 ① 미국 특허 분류에 의거한 기술 단위, 그리고 ② 특허권자 단위로 Hall, Jaffe and Trajtenberg(2001)의 연구에서 정의한 Herfindahl- Hirschman Index를 계산했다. 중국의 특허들은 한국, 대만과 유사하게 몇몇 기술에 집중된 경향을 보였다. 그러나 특허의 소유구조는 비교적 다양하게 분포되어 있었고, 이는 대만의 특허 소유구조와 유사한 것으로 확인되었다.

This paper investigates the path of knowledge diffusion into China. While economic development occurs at multiple levels of technology, we are primarily interested in China as a emerging innovating nation, and as such, focus on how China has been absorbing frontier technologies from abroad. To this end, we consider utility patents granted by US patent office (USPTO). As observed by Kwon, Lee, and Lee (2017), Lee, Lim, and Jung (2018), and others, China's patent production in the US has been rapidly increasing since the turn of the century. This pattern is similar to patenting activities of Korea and Taiwan in the 1990s, two neighboring countries that recently graduated from followers to leaders in the global technology ladder. Analyzing Chinese patents granted by the USPTO offers a potential barometer for predicting the role of Chinese economy in the years ahead. This paper adopts the framework of Hu and Jaffe (2003) and study the geographic patterns of patent citations by Chinese inventors. Japan, Korea, and Taiwan are all global innovation leaders and compete in similar industries. Also, they are located in similar proximity to China, which allows us to abstract from the effects of distance in knowledge spillovers. Controlling for the size of citable patents across countries, our main finding shows that Chinese inventors are most likely to cite Taiwanese patents followed by Korean and then Japanese patents. The reliance on Taiwan was particularly dominant in the early years of Chinese patenting growth. Korean technologies became more important over the recent years but the gap against Taiwan continues to remain. Taiwanese impact on Chinese knowledge production has been particularly important in electrical/electronics and machinery sectors. Korean patents have been frequently cited by Chinese inventors in chemical and computers/communications sectors, while the impact of Japanese patents has been generally limited. We also compare the market structure of patenting activities in China with the other countries. Specifically, we calculate the modified Herfindahl-Hirschman Index proposed by Hall, Jaffe, and Trajtenberg (2001) across (i) technology classes and (ii) patent assignees. It turns out that Chinese patenting has been highly concentrated in terms of technological spectrum, similarly to both Korea and Taiwan, but the ownership of Chinese patents are much more dispersed. The latter observation presents another close connection between Chinese and Taiwanese innovation sectors.

국문요약

제1장 서론

제2장 분석 자료

제3장 중국과 주요국의 특허 집중도 비교

제4장 수입 및 FDI를 통한 기술 이전

제5장 특허 인용을 이용한 지식 확산 경로 분석
1. 종합적인 추세
2. 산업별 추세

제6장 결론 및 시사점

참고문헌

Executive Summary

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