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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제19권 제10호
발행연도
2006.1
수록면
923 - 929 (7page)

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Single crystalline ZnO films were successfully grown on R-plane sapphire substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy. Epitaxial relationship between the ZnO film and the R-plane sapphire was determined to be [-1101]Al2O3∥[0001]ZnO, [11-20]Al2O3∥[-1100]ZnO based on the in-situ reflection high-energy electron diffraction analysis and confirmed again by high-resolution X-ray diffraction measurements. Grown (11-20) ZnO films surface showed mound-like morphology along the <0001>ZnO direction and the RMS roughness was about 4 nm for 2 μm×2 μm area.

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