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자료유형
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저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제14권 제5호
발행연도
2013.1
수록면
254 - 257 (4page)

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In-situ optical emission spectroscopy (OES) is employed for PECVD chamber monitoring. OES is used as an addon sensor to monitoring and cleaning end point detection (EPD). On monitoring plasma chemistry using OES, the process gas and by-product gas are simultaneously monitored. Principal component analysis (PCA) enhances the capability of end point detection using OES data. Through chamber cleaning monitoring using OES, cleaning time is reduced by 53%, in general. Therefore, the gas usage of fluorine is also reduced, so satisfying Green Fab challenge in semiconductor manufacturing.
#PECVD #Chamber cleaning #OES #Green fab

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