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논문 기본 정보

자료유형
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제10권 제4호
발행연도
2001.12
수록면
411 - 415 (5page)

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대기압 저온 플라스마를 사용하여 산화아연 박막의 건식 식각 가능성을 연구했다. 플라스마로부터 H^*_α과 CH^*라디컬 발생을 확인하였고, 라디컬 발생 능력은 광학 발광 스펙트럼 및 플라스마 임피던스 분석에 의해 캐소드전극에 의존하는 것을 알았다. 식각능력은 플라스마 I-V커브에 의한 임피던스와 발광강도에 의해 계산되었다.

목차

요약

Abstract

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 실험

Ⅲ. 결과 및 고찰

Ⅳ. 결론

참고문헌

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