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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.5
- 수록면
- 200 - 204 (5page)
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이 논문에서는 반도체의 기판으로 사용되는 Si(silicon)기판과 금속배선 물질인 Cu(copper)의 확산을 효과적으로 방지하기 위한 W(Tungsten)-C(Carbon)-N(Nitrogen) 확산방지막을 제시하였고, 시료 증착을 위하여 rf magnetron sputter를 사용하여 동일한 증착조건에서 질소(N)의 비율을 다르게 증착한 후 시료의 열적 안정성 측정을 위하여 상온에서 800℃까지 각각 질소분위기에서 30분간 열처리 과정을 실시하여 열적 손상을 인가하였다. 이후 Nanoindentation 기법을 이용하여 총 16 points에서 Elastic modulus와 Weibull distribution을 측정하였다. 그 결과 질화물질이 고온에서 물성변화가 적게 나타나는 것을 알 수 있었고, 온도변화에 따른 박막의 균일도와 결정성 또한 질화물질에서 더 안정적이었다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 실험결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌
참고문헌 (8)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - 김수인 / 2008 / 불순물을 주입한 텅스텐(W) 박막의 확산방지 특성과 박막의 물성 특성연구 / 한국진공학회지 17 (6) : 518 ~ 522
2. [학술지(정기간행물)] - 김수인 / 2009 / Physical Properties of a HDI-PR after Dipping It in a Plasma-induced Liquid-vapor-activated (PLVA) PR Stripper As Measured by Using Nano-indentation / Journal of the Korean Physical Society 55 (3) : 995 ~ 998
3. [단행본] - B. Bhushan / 1996 / Handbook of micro nanotribiology : 321 ~ 409
4. [학술지(정기간행물)] - I. N. Sneddon / 1965 / / J. Eng. Sci 3 : 47 ~
5. [학술지(정기간행물)] - M. F. Doerner / 1986 / / J. Mater. Res 1 : 601 ~
2. [학술지(정기간행물)] - 김수인 / 2009 / Physical Properties of a HDI-PR after Dipping It in a Plasma-induced Liquid-vapor-activated (PLVA) PR Stripper As Measured by Using Nano-indentation / Journal of the Korean Physical Society 55 (3) : 995 ~ 998
3. [단행본] - B. Bhushan / 1996 / Handbook of micro nanotribiology : 321 ~ 409
4. [학술지(정기간행물)] - I. N. Sneddon / 1965 / / J. Eng. Sci 3 : 47 ~
5. [학술지(정기간행물)] - M. F. Doerner / 1986 / / J. Mater. Res 1 : 601 ~
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