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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2013.5
- 수록면
- 131 - 137 (7page)
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본 연구에서는 유기소자의 절연박막을 습식 공정이 아닌 건식 공정인 플라즈마 중합법을 이용하여 Styrene 유기물을 사용하여 절연박막을 제작하였다. 안정적인 플라즈마 형성을 위해 버블러와 써큐레이터를 활용하여 정량적인 모노머 주입을 가능하게 하였다. 본 연구에서는 플라즈마 중합된 Styrene 박막을 30, 60 nm 터널링층으로 활용하였고, Styrene 절연층의 두께를 430 nm, Au 메모리층의 두께를 7 nm, 활성층의 두께를 40 nm, 소스와 드레인 전극의 두께를 50 nm로 유기 메모리 소자를 제작하여 특성을 평가하였다. 40/-40 V의 double sweep시 45 V의 히스테리시스 전압을 얻을 수 있었고, 이는 MMA를 터널링층으로 활용한 유기 메모리 소자의 히스테리시스 전압이 27 V인 것과 비교하였을 때 60% 상승한 효과로 히스테리시스 전압이 18 V 이상 높은 결과이다. 이와 같은 결과로부터 플라즈마 중합된 Styrene 유기 박막의 높은 전하 포집 특성을 활용하여 전체층을 유기 재료로 제작한 유연한 메모리 소자의 응용 가능성을 기대한다.
목차
I. 서론
II. 실험
III. 실험 결과
IV. 결론
참고문헌
참고문헌 (14)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - C. Zhang / 2004 / / Polymer 45 : 7665 ~
2. [단행본] - H. Klauk / 2006 / Organic Electronics: Materials, Manufacturing and Applications / WILEY- VCH GmbH
3. [학술지(정기간행물)] - H. S. Kim / 2013 / / Jpn. J. Appl. Phys 52 : 021601 ~
4. [학술지(정기간행물)] - T. W. Kim / 2010 / / Appl. Phys. Lett 97 : 023310 ~
5. [학술지(정기간행물)] - H. Y. Choi / 2004 / / Adv. Mater 16 : 732 ~
2. [단행본] - H. Klauk / 2006 / Organic Electronics: Materials, Manufacturing and Applications / WILEY- VCH GmbH
3. [학술지(정기간행물)] - H. S. Kim / 2013 / / Jpn. J. Appl. Phys 52 : 021601 ~
4. [학술지(정기간행물)] - T. W. Kim / 2010 / / Appl. Phys. Lett 97 : 023310 ~
5. [학술지(정기간행물)] - H. Y. Choi / 2004 / / Adv. Mater 16 : 732 ~
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