Tiw, A1/Tiw 박막의 저항특성및 annealing 효과

양전욱 ,  편광의 ,  조경익 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1986 .06

TiW , AI / TiW 박막의 저항특성 및 annealing 효과 ( Sheet Resistance and Annealing Effects of Thin TiW , AI / TiW Films )

양전욱 ,  편광의 ,  조경익 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

XPS chamber 내 in-situ 열처리에 의한 $SiO_2$/TiW system의 계면반응 연구

박형호 ,  조경익 ,  김경수 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

다층 배선 공정기술 및 향후 동향연구

이대우 ,  모승기 ,  윤용선 외 1명

[ETRI] 전자통신동향분석

1991 .09

플라즈마 산화막을 이용한 이중 금속 배선 공정 ( Double-layer Metal Process using Plasma-Oxide )

김흥식 ,  오상식 ,  이진효 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1982 .01

Thermal Contact Resistance of Two Bodies in Contact

곽홍섭 ,  정재택

한국전산유체공학회지

2004 .09

다결정 3C-SiC/TiW Ohmic Contact에 관한 연구

온창민 ,  정귀상

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

수소 플라즈마 처리에 의한 실리콘 직접 접합 특성에 관한 연구

崔祐範 ,  朱哲民 ,  金東南 외 1명

전기학회논문지 C

2000 .07

리모트 수소 플라즈마를 이용한 실리콘 표면의 금속오염 제거 및 제거기구

박명구 ,  이종무 ,  안태항 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

플라즈마를 이용한 물 분해 및 수소 제조

엄환섭 ,  강정구 ,  홍용철

한국에너지학회 학술발표회

2003 .11

열처리된 SiO2/TiW 구조의 계면 특성 ( The interfacial properties of the annealed SiO2/TiW structure )

이재성 ,  박형호 ,  이정희 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .03

다층 배선 기술의 문제점 및 동향

양두영 ,  김형준 ,  이희국

전자공학회지

1990 .08

다층 금속선 형성을 위한 신공정 개발에 관한 연구

주승기

전자공학회지

1991 .09

이온빔과 플라즈마를 이용한 고분자 및 금속 표면처리

최성창 ,  한재길

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2008 .03

초고온 MEMS용 다결정 3C-SiC의 Ohmic contact 특성

정귀상 ,  온창민

센서학회지

2006 .01

플라즈마를 이용한 표면처리 기술 동향

하성용 ,  주정훈

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2017 .11

접촉 면적과 접촉면 압력분포에 대한 마찰의 영향 ( The Effects of Friction on the Contact Area and the Distribution of Contact Pressure )

이문주 ,  조용주

한국트라이볼로지학회 학술대회

1999 .11

플라즈마 처리에 의한 친수성 표면의 유지시간에 관한 실험적 연구

한유리 ,  Anug ,  ah Andisetiawan 외 4명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2015 .05

1 Gbit급 다층 Cu 금속 배선제작에 관한 연구

김동일 ,  이일형 ,  윤관기 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

리모트 수소 플라즈마를 이용한 Si 표면의 금속오명 제거

박명구 ,  안태항 ,  이종무 외 2명

한국재료학회지

1996 .01