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논문 기본 정보

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학술대회자료
저자정보
하홍용 (한국과학기술연구원 에너지.반응공정 연구실) 남석우 (한국과학기술연구원 에너지.반응공정 연구실) 홍성안 (한국과학기술연구원 에너지.반응공정 연구실) 이원국 (한국과학기술원 화학공학과)
저널정보
한국막학회 한국막학회 총회 및 학술발표회 한국막학회 1992년도 추계 총회 및 학술발표회
발행연도
1992.1
수록면
5 - 6 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

1996

화학증착법으로 제조한 기체분리용 무기막에 관한 연구
하홍용 ,  남석우 ,  홍성안 한국막학회 총회 및 학술발표회 1996.01 학술대회자료

1992

TEOS의 화학증착에 의해 제조된 $SiO_2$ 담지막의 기체분리 및 반응기 특성 연구
하홍용 ,  남석우 ,  홍성안 외 1명 한국막학회 총회 및 학술발표회 1992.01 학술대회자료

초록· 키워드

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무기막은 고분자 계통의 유기막과는 달리 200$\circ$C 이상의 고온에서도 높은 기체 투과도와 구조적 안정성을 보인다. 따라서 무기막을 고온의 촉매 반응에 이용하면 생성물 중 일부를 선택적으로 분리시키므로써 열역학적으로 예측할 수 있는 값 이상의 높은 전환율을 얻을 수 있으며, 또한 반응물 중 일부를 막을 통해 주입하면 반응의 정도를 조절함으로써 원하는 생성물의 수율을 높일 수 있게 된다. 그러나, 현재 실험실에서 많이 연구되고 있는 다공성 유리 또는 다공성 알루미나와 같은 무기막들은 기체 투과도는 높은 반면에 기체 분리가 Knudsen diffusion에 의해 이루어지기 때문에 분리선택도가 낮은 단점이 있다.

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