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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2000.1
- 수록면
- 151 - 152 (2page)
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For excimer laser crystallization (ELC), energy density, number of pulses, beam uniformity, and condition of initial amorphous Si (a-Si) films are significant factors contributing the final microstructure and the performance of low-temperature polycrystalline Si TFTs. The process and equipment have been achieved a significant improvement, but still, environmental factors associated with initial amorphous Si (a-Si) films and process conditions need to be optimized.
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