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CMP 공정 중 polishing performance 향상을 위한 세라믹 컨디셔너의 개발과 특성평가
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
CMP 컨디셔너의 새로운 제안
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
1998 .05
CMP 공정용 다이아몬드 컨디셔너의 배열과 마찰신호의 상관관계에 대한 연구
한국트라이볼로지학회 학술대회
2013 .04
화학기계적평탄화 공정에서 컨디셔너구조가 패드 형상에 미치는 영향
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2017 .12
CMP (Chemical Mechanical Planarization) 공정 중 Ceria Particle의 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
화학적기계적평탄화 공정에서 스윙암 컨디셔너의 구역 체류 시간 제어
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2018 .05
니켈 CMP 에서 화학첨가제의 영향에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2017 .12
Chemical Mechanical Planarization : Theory and Experiment
대한기계학회 춘추학술대회
2013 .05
반도체 CMP 공정응용을 위한 Particle-scale Tribology 특성 고찰
대한기계학회 춘추학술대회
2009 .05
반도체 CMP 공정응용을 위한 Particle-scale Tribology 특성 고찰
대한기계학회 춘추학술대회
2009 .05
Stick-Slip Friction Model on the Micro-Scratch Formation during Chemical Mechanical Planarization (CMP)
한국트라이볼로지학회 학술대회
2009 .11
화학기계적 연마(CMP) 공정과 관련연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014 .10
화학기계적 연마에서 컨디셔너 직경에 따른 연마패드 마모 해석
한국트라이볼로지학회 학술대회
2019 .04
CMP 컨디셔닝 공정에서의 부식방지를 위한 자기조립 단분자막의 적용과 표면특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2011 .01
연마제 특성에 따른 차세대 금속배선용 Al CMP (chemical mechanical planarization) 슬러리 개발 및 평가
한국재료학회 학술발표대회
2006 .01
CMP 공정 후의 오염 제어
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
1998 .05
앙상블 모델을 통한 화학적 기계연마 기술 연마율 예측
대한기계학회 춘추학술대회
2016 .12
3중 존 컨디셔너의 연마패드 해석
한국트라이볼로지학회 학술대회
2020 .09
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