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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
박경희 (조선대 에너지자원신기술연구소) 류현욱 (조선대 에너지자원신기술연구소) 서용진 (대불대학교 전기공학과) 이우선 (조선대학교 전기공학과) 홍광준 (조선대학교 물리학과) 박진성 (조선대학교 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제7호
발행연도
2003.1
수록면
442 - 446 (5page)

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Tin dioxide ($SnO _2$) thin films were deposited at $375^{\circ}C$ on alumina substrate by metal-organic chemical vapor deposition. A few hillocks like a cauliflower were observed and the number of hillock on thin film surface increased with annealing temperature in air atmosphere. The oxygen content and the binding energy during air annealing at$ 500^{\circ}C$ came to close the stoichiometric $SnO_2$. The cauliflower hillocks seem to be the result of the continuous migration of the tiny grains to release the stress of an expanded grain. Sensitivity of CO gas depended on annealing temperature and increased with increasing annealing temperature.
#thin films #MOCVD #tin dioxide #XPS #annealing

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