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저자정보
김경민 (위덕대학교 일반대학원 정보전자공학과) 김정열 (위덕대학교 그린에너지공학부) 이유기 (위덕대학교 그린에너지공학부) 최용선 (위덕대학교 일반대학원 정보전자공학과) 이재성 (위덕대학교 그린에너지공학부) 이영기 (위덕대학교 그린에너지공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제28권 제4호
발행연도
2018.1
수록면
195 - 200 (6page)

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This study investigated the effects of the post annealing temperatures on the electrical and interfacial properties of a metal-semiconductor-metal photodetector(MSM-PD) device. The interdigitate type MSM-PD devices had the structure Al(500 nm) / Ti(200 nm) / poly-Si(500 nm). Structural analyses of the MSM-PD devices were performed by employing X-ray diffraction(XRD), scanning electron microscopy(SEM) and transmission electron microscope(TEM). Electrical characteristics of the MSM-PD were also examined using current-voltage(I-V) measurements. The optimal post annealing condition for the Schottky contact of MSM-PD devices are $350^{\circ}C$-30minutes. However, as the annealing temperature and time are increased, electrical characteristics of MSM-PD device are degraded. Especially, for the annealing conditions of $400^{\circ}C$-180minutes and $500^{\circ}C$-30minutes, the I-V measurement itself was impossible. These results are closely related to the solid phase reactions at the interface of MSM-PD device, which result in the formation of intermetallic compounds such as $Al_3Ti$ and $Ti_7Al_5Si_{12}$.

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