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저자정보
박경수 (고등기술연구원 신소재공정센터) 강이승 (고등기술연구원 신소재공정센터) 이찬기 (고등기술연구원 신소재공정센터) 엄성현 (고등기술연구원 신소재공정센터) 홍현선 (고등기술연구원 신소재공정센터) 심종길 (고등기술연구원 신소재공정센터) 박정진 ([주]엔코)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제25권 제4호
발행연도
2014.1
수록면
414 - 417 (4page)

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습식제련 기술을 통한 Ga의 재활용을 위해 고결정성 GaN으로 구성되어 있는 LED 공정스크랩의 침출 거동을 연구하였다. 고결정성 GaN은 산성 및 염기성 조건에서 매우 안정하여 침출이 어려운 물질로 알려져 있다. 따라서, 본 연구에서는 볼밀링을 통해 원료와 $Na_2CO_3$를 1:1 비율로 섞은 후 관상로를 이용해 $1000-1200^{\circ}C$에서 열처리 하여 산화물로의 상변화를 유도하였다. 열처리 결과로써, $1100^{\circ}C$에서 GaN은 약 73 wt%의 Ga을 포함하는 산화물로 상변화 되었다. 이러한 열처리 샘플은 $100^{\circ}C$ 4 M HCl에서 96%의 높은 침출률을 나타냈다.

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