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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
박현우 (LG전자 소재/생산기술원) 차우병 ([주]플라즈마텍) 엄성현 (고등기술연구원 플랜트엔지니어링센터)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제29권 제1호
발행연도
2018.1
수록면
10 - 17 (8page)

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반도체 및 디스플레이 제조공정 중에 화학기상증착(CVD), 식각(etching), 세정(cleaning) 공정에서 배출되는 과불화합물(PFCs)를 포함한 폐 가스 처리를 위해서 POU (point of use) 가스 스크러버 시스템을 도입하여 사용하고 있다. 과불화합물은 지구온난화 지수(GWP, global warming potential)와 대기 중 자연분해되는 기간(lifetime)이 $CO_2$에 비해 수천 배 높은 온실가스로 분류되어 있으며, 과불화합물의 열분해를 위해서는 3,000 K 이상의 고온이 요구되는 것이 일반적이다. 이러한 특징 때문에 과불화합물을 효과적으로 제어하기 위한 방법으로 열플라즈마 기술을 도입하고자 하는 노력들이 진행되어 왔으며, POU 가스 스크러버 기술을 개발하여 산업적으로 이용하고자 하였다. 열플라즈마 기술은 플라즈마 토치 기술, 전원공급장치 기술 및 플라즈마 토치-전원공급장치 매칭 기술 최적화를 통해 안정적으로 플라즈마 발생원을 유지시키는 것이 중요하다. 또한, 과불화합물 고효율 처리를 위한 고온의 플라즈마와 폐 가스의 효과적인 혼합이 주요 기술요인으로 확인되었다. 본 논문에서는 반도체 및 디스플레이 공정 폐 가스 처리를 위한 후처리 공정에 대한 기술적 정보를 제공함과 동시에 POU 플라즈마 가스 스크러버에 대한 기술개발 동향을 파악함으로써 향후 연구개발이 요구되는 핵심사항에 대해 논의하고자 한다.
#PFCs #thermal plasma #POU gas scrubbers #HF #energy efficiency

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참고문헌 (16)

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M. B. Chang / 2006 / Abatement of PFCs from semiconductor manufacturing processes by nonthermal plasma technologies: a critical review / Ind. Eng. Chem. Res. 45:4101~4109 google schola H. J. Lee / 1998 / Waste minimization technology trends in semiconductor industries / Clean Technol. 4:6~23 google schola United Nation Framework Convention on Climate Change google schola J. H. Ko / 2013 / Decomposition of nitrogen trifluoride using low power arc plasma / Plasma Sci. Technol. 15:923~927 google schola SOOSEOK CHOI / 2012 / THERMAL PLASMA DECOMPOSITION OF FLUORINATED GREENHOUSE GASES / Nuclear Engineering and Technology 44(1):21~32 dbpia

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