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자료유형
학술저널
저자정보
Park, Jung-Kyu (Nano-machining Lab., KIMM[Korea Institute of Machinery and Materials]) Yoon, Ji-Wook (Nano-machining Lab., KIMM[Korea Institute of Machinery and Materials]) Cho, Sung-Hak (Nano-machining Lab., KIMM[Korea Institute of Machinery and Materials])
저널정보
한국레이저가공학회 한국레이저가공학회지 한국레이저가공학회지 제15권 제1호
발행연도
2012.1
수록면
15 - 19 (5page)

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The fabrication of internal diffraction gratings with photoinduced refractive index modification in transparent materials was demonstrated using low-density plasma formation excited by a femtosecond (130 fs) Ti: sapphire laser (${\lambda}_p$=800 nm). The refractive index modifications with diameters ranging from $1{\mu}m$ to $3{\mu}m$ were photoinduced after plasma formation occurred upon irradiation with peak intensities of more than $2.0{\times}10^{13}W/cm^2$. The graded refractive index profile was fabricated to be a symmetric around from the center of the point at which low-density plasma occurred.
#femtosecond laser #plasma formation #internal diffraction gratings #refractive index modification #transparent materials

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