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저자정보
김해성 (삼성종합기술원 Nano Device Lab) 이명복 (삼성종합기술원 Nano Device Lab) 손진승 (삼성종합기술원 Nano Device Lab) 서성동 (삼성종합기술원 Nano Device Lab) 조은형 (삼성종합기술원 Nano Device Lab)
저널정보
정보저장시스템학회 정보저장시스템학회논문집 정보저장시스템학회논문집 제1권 제2호
발행연도
2005.1
수록면
182 - 187 (6page)

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A large area micro mirror is an optical element that functions as changing an optical path by reflection in integrated optical system. We fabricated the large area silicon mirror by anisotropic etching using MEMS for implementation of integrated optical pickup. In this work, we report the optimum conditions to better fabricate and design, greatly improve mirror surface quality. To obtain mirror surface of $45^{\circ},\;9.74^{\circ}$ off-axis silicon wafer from (100) plane was used in etching condition of $80^{\circ}C$ with 40wt.% KOH solution. After wet etching, polishing process by MR fluid was applied to mirror surface for reduction of roughness. In the next step, after polymer coating on the polished Si wafer, the Si mirror was fabricated by UV curing using a trapezoid bar-type way structure. Finally, we obtained peak to valley roughness about 50 nm in large area of $mm^2$ and it is applicable to optical pickup using blu-ray wavelength as well as infrared wavelength.
#실리콘 미러 #광 픽업 #식각 #자기유변유체 #폴리머를 입힌 실리콘 미러 #Silicon Mirror #Optical Pickup #Etching #MR Fluid #Polymer-clad Silicon Mirror

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