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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.4
- 수록면
- 89 - 89 (1page)
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Photoresist is an essential material for semiconductor patterning because change in its chemical structure upon irradiation induces solubility change in a specific solvent. Conventionally crosslinking reaction and polarity changes due to deprotection chemistry have been used for the patterning. Azobenzene groups absorbs UV light which corresponds to the energy gap of the π-π* transition ... 전체 초록 보기
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