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자료유형
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저자정보
김용열 (홍익대학교)
저널정보
서울대학교 국제학연구소 국제.지역연구 국제지역연구 제30권 제2호 2021 여름
발행연도
2021.6
수록면
163 - 187 (25page)
DOI
10.56115/RIAS.2021.06.30.2.163

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본 연구는 한일 추격의 성과를 설명하는 요인으로서 기술능력에 관련된 혁신활동이 특정 분야나 부문에 얼마나 집중되어 있는지 분석하는 데 목적이 있다. 이를 위해 기술혁신 활동의 투입에 해당하는 R&D와 산출에 해당하는 특허로 나누어 한일 양국 산업별 R&D 지출 금액과 USPTO 특허 건수의 분포로부터 집중도를 계산하였다.
먼저 R&D의 경우 전 연도에 걸쳐 한국의 엔트로피 지수가 일본보다 낮아서 집중도가 높았다. 따라서 한국은 일본에 비해 몇몇 주요산업에 R&D 지출이 집중하는 경향을 보인다고 할 수 있다. 또한 특허에 있어서도 모든 연도에 한국이 일본보다 낮은 엔트로피 지수를 보여 집중도가 높았다. 따라서 한국의 특허취득이 특정분야에 더 몰리는 경향을 보인다고 할 수 있다.
집중도 자체와 다른 이슈로서 R&D가 투입되어 얼마나 많은 특허를 산출하는지의 효율성에 관해 한일 비교를 하였다. 기간 전체에 걸쳐 한국의 효율성이 일본보다 높은 것으로 나타났다. 이는 한국이 특정분야에 국한하여 R&D와 특허의 활동을 하지만 R&D를 특허로 연결하는 성과 측면에서는 일본보다 우월하다는 점을 의미한다.
3개의 한일 역전 산업(D램, TFT-LCD, TV)만을 보는 경우 3개 산업 특허의 비중이 한국이 일본보다 훨씬 높았다. 또한 특허의 집중도를 상위 n사 집중률로 계산하면 모든 집중률 지수에서 한국이 일본보다 압도적으로 높은 수치를 보였다. 이로써 한국은 잘 나가는 특정산업에서 집중된 특허능력을 갖고 있고 소수의 상위기업들에 의해 주도되고 있음을 알 수 있다.
#한일 #집중도 #특허 #엔트로피 #Korea and Japan #Concentration #R& #D #Patent #Entropy

목차

Ⅰ. 문제의식
Ⅱ. 추격의 성과와 관련요인
Ⅲ. 기술혁신 집중도 분석
Ⅳ. 결론 및 시사점
참고문헌

참고문헌 (34)

참고문헌 신청
고영권 / 2016 / 기술혁신 활동 집중도가 경영성과에 미치는 영향에 관한 연구: ICT 상장기업을 중점으로 / 한국콘텐츠학회 논문지 16(4):347~358 dbpia 곽원식 / 2008 / 기업간 추격의 경제학 / 21세기북스 google schola 김용열 / 2010 / 한ᆞ일 수출경쟁력의 변화유형과 기술수준의 관계 / East Asian Economic Review 14(2):167~194 dbpia 김용열 / 2011 / 한국의 대일 시장추격과 기술추격 / 일본연구논총 (34):5~30 dbpia 김용열 / 2013 / 추격 성과의 다중 비교: 한국, 일본, 미국, 중국 간 시장추격을 중심으로 / 국제.지역연구 22(2):147~172 dbpia

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