낮은 GWP를 가지는 Fluorocarbon 이성체에 따른 HARC 식각 특성 연구

Q: 이 논문에서 정의한 HARC 식각이란 무엇인가?

HARC 식각은 고종횡비 구조를 형성하는 식각 공정으로, 3D 소자 구조의 밀도를 결정하는 핵심 공정이다. 주로 Fluorocarbon 물질을 사용하며, 식각 특성 개선을 위해 다양한 기술이 연구되어 왔으나 환경 문제가 고려되어야 하는 중요한 공정이다.

Q: 낮은 GWP를 가지는 Fluorocarbon 이성체가 HARC 식각 특성에 어떤 영향을 미치는가?

연구 결과, 화학식은 같지만 구조가 다른 Fluorocarbon 이성체는 Plasma 형성에 영향을 미치며, 이는 생성되는 Polymer의 차이를 발생시켜 Etch Rate, Etch Selectivity, Etch Profile, ARDE와 같은 HARC 식각 특성을 변화시킨다. 따라서 이성체 사용은 공정 결과를 제어하고 환경 영향을 줄이는 방안이 된다.

박명호; 탁현우; 최찬혁; 이준수; 장준기; 김은구; 남궁준; 김동우; 염근영

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저자정보: 박명호 (성균관대학교) 탁현우 (성균관대학교) 최찬혁 (성균관대학교) 이준수 (성균관대학교) 장준기 (성균관대학교) 김은구 (성균관대학교) 남궁준 (성균관대학교) 김동우 (성균관대학교) 염근영 (성균관대학교)

저널정보: 한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2024년도 한국표면공학회 추계학술대회

발행연도: 2024.10

수록면: 133 - 133 (1page)

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메모리 소자 집적도를 높이는데 한계에 도달함에 따라, 소자 구조가 2D에서 3D 소자 구조로 변화하고 있다. 3D 소자 구조의 경우, 고종횡비(High Aspect Ratio) 식각 공정을 개선하는 것이 소자의 밀도를 결정하기 때문에 소자 제작에 있어 가장 중요한 공정중 하나라고 알려져 왔다. 선택비나 식각 프로파일과 같은 식각 특성을 개선하기 위해, 공정 가스를 변경하는 것을 포함하여 다양한 식각 기술들이 널리 연구되었다. 하지만, HARC 공정에 주로 사용되는 Fluorocarbon 물질은 높은 Global Warming Potential (GWP)를 가지는 특성이 있다. 최근 반도체 산업 동향에서는 공정을 통해 야기되는 환경 문제도 필수적으로 고려해야 할 사항이다. 이에 따라 본 연구에서는 GWP가 상대적으로 낮은 F ... 전체 초록 보기

#고종횡비 식각 #Fluorocarbon #Global Warming Potential (GWP) #Isomer

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