Surface treatment effects on the electron emission characteristics of ultra thin AlN coated molybdenum tips

D.Kang; J.J.Cuomo

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자료유형: 학술저널

저자정보: D.Kang (North Carolina State University) J.J.Cuomo (North Carolina State University)

저널정보: 한양대학교 청정에너지연구소 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제3권 제3호

발행연도: 2002.9

수록면: 228 - 230 (3page)

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Even though surface treatment has proven useful for both metal and diamond field emitters, there is at this time no study ofits effects on AlN emitters. In this study, a 7 nanometer film of AlN deposited on molybdenum emitter tip was treated withdifferent gas plasmas (H2, O2, N2). All surface treatments and measurements were carried out by using an in-situ techniqueinside the magnetron sputtering chamber. Changes in the measured I-V curves were not observed for the emitter treated witheither hydrogen or nitrogen plasmas, but were observed for the oxygen plasma treatment and after the deposition of a verythin (<10A) aluminum film. The aluminum film deposition was very effective at enhancing emission from a Mo tip coated withAlN. This may be explained by lowering of the surface barrier due to the electronegativity difference at the surface.

#AlN #Field emission #Surface treatment

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