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초록·키워드
본 연구에서는 반도체 폐수의 전처리 이후에도 잔류하는 저농도 불소를 안정적으로 제어하기 위하여, NaAlO₂ 기반 AFR(Alkaline Fluoride Remover)/FR(Fluoride Remover)/응집제 조합공정의 3차 고도처리 적용성을 평가하였다. 국내 수질오염물질 배출허용기준에서 불소 함유량은 지역 구분에 따라 관리되며, 본 연구에서는 강화된 방류수 관리 수준을 고려하여 최종 불소 농도 ≤ 3 mgㆍL<sup>-1</sup> 를 목표 수질로 설정하였다. 기존 3단 처리 공정 평가에서는 원폐수에 소석회, 과수제거제/소석회, FR/응집제 처리를 순차적으로 적용하였으나, 최종 불소 농도는 3.75-82 mgㆍL<sup>-1</sup>로 나타나 33개 조건 모두 목표 수질(최종 불소 농도 ≤ 3 mgㆍL<sup>-1 </sup>)을 만족하지<sup> 못하였다. 이에 본 연구에서는 기존 1ㆍ2차 처리 이후의 3차 반응 유입수에 AFR/FR/응집제 조합을 적용하였다. 그 결과, 최종 불소 농도는 0.37-2.44 mgㆍL</sup>-1로 낮아졌으며, 평가한 37개 조건 모두 목표 수질을 만족하였다. 기존 공정과 AFR 적용 공정은 평가대상 폐수와 공정범위에 차이가 있어 직접적인 대조군 비교에는 제한이 있으나, 각 공정조건에서의 불소 처리특성과 목표 수질 달성 여부를 통해 AFR 적용 공정의 처리 가능성을 확인하였다. 또한 추가 처리자료 99건에서도 최종 불소 농도는 1.58 ± 0.52 mgㆍL<sup>-1</sup>로 나타나, 평가한 운전범위에서 AFR/FR/응집제 조합공정의 안정적이고 일관된 불소 처리경향이 확인되었다. 본 연구 결과는 NaAlO₂ 기반 AFR/FR/응집제 조합공정이 전처리 이후 잔류하는 불소를 안정적으로 제어할 수 있으며, 기존 3차 반응단을 보완하는 공정으로 활용될 수 있음을 시사한다.
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