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학위논문
저자정보

최종범 (한국해양대학교, 한국해양대학교 대학원)

지도교수
윤용섭
발행연도
2018
저작권
한국해양대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.

이용수12

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

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스테인리스강은 부식에 강하고 내마모성 및 내산화성 등이 우수하여 다양한 산업분야에서 사용되어지고 있다. 특히 오스테나이트와 페라이트상이 혼합된 듀플렉스 스테인리스강은 우수한 내식성, 높은 강도, 양호한 가공성, 안정적 가격변동의 특징을 가진 철강재로써 그 사용량이 꾸준히 증가하고 있다. 스테인리스강의 여러 합금 원소 중 내식성과 직접적인 역할을 하는 크롬 이외에, 니켈은 페라이트의 상변태에 큰 영향을 주는 원소이다. 니켈은 오스테나이트계 스테인리스강의 가격 변동성에 큰 영향을 미치기 때문에 이를 대체하려는 연구가 진행되었고, 그 결과, 니켈의 함량은 줄이고 망간과 질소 등을 첨가한 저니켈 듀플렉스 스테인리스강(STS 329 Formability Lean Duplex, FLD)이 등장하였다. 하지만 STS 329 FLD 내 니켈의 감소로 인하여 내식성 등 보완해야할 문제가 발생하고 있다.
스테인리스강의 내식성을 증대시키는 다양한 방안이 존재하며 그 중 표면처리법은 공정이 단순하고 가격 경쟁력이 우수한 장점이 있다. 표면처리법 중 화학적 부동태화(Chemical passivation)는 구연산, 질산 등을 이용하여 부동태막에서 부동태막의 크롬산화물의 치밀도의 증가, 개재물(Inclusion)의 제거 등에 의하여 내식성을 증대시키는 방법이다. 이러한 처리법 중 질산 용액에 산화제를 첨가할 경우 산화환원전위의 상승으로 인하여 수산화크롬(Cr2(OH)3)이 산성 환경에서 내식성이 우수한 산화크롬 (Cr2O3)으로 고체상 변화하여 부동태막의 내식성이 더욱 증가한다. 기존에는 산화제로 중크롬산나트륨이 주로 사용되었으나, 중크롬산나트륨의 환경적 문제로 인한 제제로 새로운 대체제의 개발이 시급한 상황이다.
본 논문에서는 질산 환경에서 화학적 부동태화 처리법에 의해 STS 329 FLD의 부동태막의 형성에 대하여 연구하였다. STS 304와 STS 329 FLD의 글로우 방전 분광 분석법(Glow discharge optical emission spectrometer)을 이용하여 깊이별 원소분포의 특성차이 및 합금원소의 상대비율과 STS 304와 STS 329 FLD의 양극분극 곡선(Anodic polarization curve)을 특성을 비교하여 STS 329 FLD의 STS 304 대비 내식특성을 고찰하였다. 또한 산화제로서 Na2MoO4의 첨가에 의해 형성되는 부동태막의 형성 메카니즘에 대하여 고찰하였다.
실험 결과, 몰리브덴산나트륨을 질산 용액에 첨가함으로써 몰포로지, 부동태막의 깊이별 원소 분포 특성, 내식 특성에 영향을 미쳤다. 몰포로지에서 몰리브덴산나트륨이 첨가됨에 따라 표면의 개재물이 감소하였다. 그로 인하여 양극분극 곡선에서 공식전위가 증가하였고, 조도 측정 결과에서 표면의 거칠기가 증가하였다. 부동태막의 깊이별 원소 분포는 몰리브덴산나트륨이 첨가됨에 따라 부동태막의 표면층에서 철의 함량은 감소하였고, 크롬은 증가하였다. 그로인해 양극분극 곡선에서 부식전류가 감소하였다. 전기화학적 임피던스 측정결과에서 몰리브덴산나트륨을 첨가한 경우에 부동태막의 커패시턴스가 증가하였다. 이는 부동태막 두께의 감소에 의한 증가뿐만 아니라 부동태막의 최외곽에 흡착된 몰리브덴이 이온상태로 존재함으로써 최외곽 표면은 양이온 선택층, 내층은 음이온 선택층 형성으로 인하여 커패시턴스가 증가한 것으로 사료된다. 부동태막이 몰리브덴의 흡착에 의해서 전기적 이중층을 형성함에 따라 양극분극 곡선에서 부식전위가 상승하였다. 또한 몰리브덴산나트륨이 첨가된 질산용액에서 표면 처리시간이 길어짐에 따라 크롬의 함량이 증가하여 부식전류가 감소하였고 표면의 개재물의 감소로 인해 공식전위가 증가하였다. 부동태막의 두께는 시간이 증가함에 따라 감소하였다. 최외곽 표면의 몰리브덴의 함량은 60분에서 감소하였으며, 그 영향으로 전기화학적 임피던스의 커패시턴스가 감소하였다.
이러한 결과들을 토대로 몰리브덴산나트륨이 중크롬산나트륨의 대체제로서 가능성을 확인하였고, STS 329 FLD의 내식성 향상에 대한 기초적인 지침을 제시할 수 있었다.

목차

1. 서 론
1.1 연구배경 및 목적 1
1.2 연구내용 3
2. 이론적 배경
2.1 스테인리스강의 특성 4
2.1.1 스테인리스강의 장점 5
2.1.2 스테인리스강의 야금학적 특성 7
2.1.3 듀플렉스(Duplex) 스테인리스강 11
2.2 스테인리스강의 표면처리 15
2.2.1 연마 15
2.2.2 화학적 처리 19
2.3 부동태막의 형성 25
2.3.1 부동태막의 형성 기구 26
2.3.2 부동태막의 열역학 28
2.3.3 부동태막의 반응속도론 29
2.3.4 부동태막의 특성 34
2.4 부동태막의 파괴 42
2.4.1 공식 43
2.4.2 틈부식 52
3. 실험 방법
3.1 시편 제작 54
3.2 재료의 특성 분석 및 평가 58
3.2.1 레이저 현미경(LSM)에 의한 표면 조도 측정 58
3.2.2 주사전자현미경(SEM)에 의한 표면 몰포로지 관찰 58
3.2.3 전자미소분석(EPMA)에 의한 표면의 원소별 분포관찰 58
3.2.4 글로우방전방출분광법(GDOES)에 의한 깊이별 원소분포 59
3.2.5 전기화학적 분석에 의한 부동태막 구조와 내식특성 분석 60
4. 실험 결과 및 고찰
4.1 저니켈 듀플렉스 스테인리스강(STS 329 FLD)의 자연부동태막 특성 63
4.1.1 부동태막의 깊이별 원소 분포 63
4.1.2 자연 부동태막의 내식 특성 69
4.2 질산 표면처리 중 첨가한 Na2MoO4 농도에 따른 스테인리스강의부동태막 특성 72
4.2.1 부동태막의 몰포로지 관찰 72
4.2.2 부동태막의 깊이별 원소 분포 81
4.2.3 부동태막의 표면 특성 분석 100
4.2.4 부동태막의 내식 특성 106
4.3 질산 용액 중 첨가한 0.5wt.% Na2MoO4 표면처리 시간에 따른스테인리스강의 부동태막 특성 108
4.3.1 부동태막의 몰포로지 관찰 108
4.3.2 부동태막의 깊이별 원소 분포 114
4.3.3 부동태막의 표면 특성 분석 125
4.3.4 부동태막의 내식 특성 127
4.4 질산 표면처리한 저니켈 스테인리스강의 부동태막의 형성 메카니즘 130
5. 결 론 134
참고 문헌 136

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