스퍼터링 방법으로 성장한 코발트크롬철망간니켈 고엔트로피합금 질산화물 박막 구조특성의 변화 :Structural Properties of CoCrFeMnNi High Entropy Alloy Oxynitride Thin Film Grown by Sputtering

이정국

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자료유형: 학위논문

저자정보: 이정국 (충남대학교, 忠南大學校大學院)

지도교수: 홍순구

발행연도: 2019

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2019

스퍼터링 방법으로 성장한 코발트크롬철망간니켈 고엔트로피합금 질산화물 박막 구조특성의 변화

이정국 신소재공학과 재료공학 전공 2019.01 학위논문

2018

스퍼터링 방법으로 성장한 코발트크롬철망간니켈 고엔트로피 질산화물 박막의 구조특성

이정국 , 홍순구 한국재료학회지 2018.01 학술저널

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This study investigated the structural properties of CoCrFeMnNi high entropy alloy oxynitride thin film which was grown by DC magnetron sputtering using oxygen and nitrogen gases. And oxynitride film was annealed under the argon gas flow for 5 hour at 800 degree. The microstructure of as-grown oxynitride thin film shows a structure in which a nanocrystalline regions with a size of 5~20 nm exists in the amorphous region, which was confirmed by high-resolution TEM (HR-TEM). From the TEM digital electron diffraction pattern (DDP) analysis was determined to be face centered cubic (FCC) structure with a lattice constant of 0.419 nm. The HEA oxynitride film showed a single phase in which metal and oxygen, nitrogen elements were uniformly distributed. After annealing, film was fully recrystallized and Ni-rich region was observed in top region at film. Annealed film showed Fe2O3 FCC structure. The as-grown film showed hardness of 8.13 GPa and Young’s modulus of 157.3 GPa, while annealed film showed hardness of 7.89 GPa and Young’s modulus of 143.8 GPa The observed high hardness value was thought as a result of hardening due to the nanoscrystalline microstructure.

List of figures
1. 서론
2. 이론적 배경
2.1. 고엔트로피 합금
2.2. 분석장비
3. 실험 방법
3.1. 고엔트로피 질산화물 박막 성장
3.2. 고엔트로피 질산화물 박막 분석
4. 결과 및 고찰
4.1. As-Grown 시료 구조분석
4.2. Annealed 시료 구조분석
5. 결론
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