Dual-Gate Surface Channel 0.1㎛ CMOSFETs

Hyouk Man Kwon ,  Yeong-Taek Lee ,  Jong Duk Lee 외 2명

Journal of Electrical Engineering and information Science

1998 .04

표면 채널형 0.1μm CMOSFET 소자 제작 ( Fabrication of Surface Channel 0.1μm CMOSFET )

권혁만 ,  박병국 ,  이종덕

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

표면 채널형 0.1㎛ CMOSFET 소자 제작

권혁만 ,  박병국 ,  이종덕

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Dual-Poly Gate Surface Channel 0.1mm CMOSFETs

Hyouk Man Kwon ,  Yeong Taek Lee ,  Byung Gook Pa 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Electrical Characterization of the Wet-Grown Ultra-Thin Gate Oxide and its Application to CMOSFETs

홍성인 ,  이종덕 ,  박병국

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

공정 시뮬레이션을 이용한 CMOS소자의 Gate Spacing에 대한 디자인 룰 설정

김도우

대한전기학회 학술대회 논문집

2015 .10

Mechanical Properties of TiN Films Deposited with Magnetron Sputtering

Min-A Song ,  Ji-Hoon Yang ,  Jae-Hun Jung 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

A Novel High Voltage CMOSFET of 80 Volts Operation

T. P. Rhee ,  H. I. Chae ,  Y. H. Koh 외 3명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

티타늄샐리사이드 공정을 이용한 0.1㎛ CMOSFET의 전기적특성 개선

엄금용 ,  최성진 ,  조재영 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

Physical properties of TiN thin films deposited by grid-assisted magnetron sputtering

Min J. Jung ,  Kyung H. Nam ,  Jeon G. Han 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2002 .05

Reactive-Sputtered TiN Diffusion Barriers의 광학적 특성에 관한 연구 ( Optical Properties of TiN Diffusion Barriers Deposited by Reactive Sputtering )

유성룡 ,  안용철 ,  최진석 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

0.13㎛ CMOSFET의 차단주파수 및 최대진동주파수 특성 분석

김종혁 ,  이성현 ,  김영욱

대한전자공학회 학술대회

2006 .06

Dual-Gate Surface Channel 0.1㎛ CMOSFETs

Hyouk Man Kwon ,  Yeong-Taek Lee ,  Jong Duk Lee 외 2명

Journal of Electrical Engineering and Information Science

1998 .04

Reactive Sputtering 으로 제조한 TiN 박막의 전기적 특성

송태섭 ,  김기완

대한전자공학회 학술대회

1984 .11

Reactive Sputtering으로 제조한 TiN 박막의 전기적 특성 ( The Electrical Charateristics of TiN thin Films By Reactive Sputtering )

송태섭 ,  김기완

대한전자공학회 학술대회

1984 .01

Reactive-Sputtered TiN Diffusion Barriers의 광학적 특성에 관한 연구

유성룡 ,  안용철 ,  최진석 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

CMOS소자의 Metal Contact과 Poly Gate간의 공정 여유도 분석

김도우

대한전기학회 학술대회 논문집

2015 .10

Reactive Magnetron Sputter Ion Plating법으로 증착된 TiN 박막의 특성에 관한 연구

이민구 ,  김흥회 ,  김선재 외 2명

한국표면공학회지

2000 .04

나노급 CMOSFET을 위한 SOI 기판에서의 Ni/Co 증착 두께에 따른 Nickel silicide 특성 분석

정순연 ,  염주호 ,  장흥국 외 8명

대한전자공학회 학술대회

2005 .11