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SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )
전자공학회논문지
1988 .11
급속 열처리에 의한 SiO2의 질화 ( Rapid Thermal Nitridation of SiO2 )
전자공학회논문지
1990 .05
Nitridation and Reoxidation of SiO2 for Ultra-thin Dielectric
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .08
질화와 재산화 조건에 따른 모스 소자의 전기적 특성 변화 ( Electrical properties variations of Nitrided , Reoxided MOS devices by Nitridation & Reoxidation Condition )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
질화와 재산화 조건에 따른 모스 소자의 전기적 특성변화
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
REOXIDATION법을 이용한 Si WAFER의 HOLE TRAP의 제거
대한전기학회 학술대회 논문집
1987 .07
REOXIDATION법을 이용한 Si WAFER의 HOLE TRAP의 제거 ( Elimination of Hole Traps on Si Wafer Using Reoxidation Method )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
고분산 담지 금촉매 - I. 금의 첨가 효과 및 활성점 생성 -
공업화학
1994 .01
$SiO_2$ RF Power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 $TiO_2-SiO_2$ 절연막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
VSLI를 위한 플라즈마 열적 질산화막의 형성 ( Plasma Enhanced Thermal Nitridation of SiO2 for VLSI )
전자공학회논문지
1989 .11
Electrical Characteristics of Thin Oxide Grown by High-Pressure Oxidation with Rapid Thermal Nitridation
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Fabrication of All-Nb Josephson Junction Array Using the Self-Aligning and Reactive ion Etching Technique
Progress in superconductivity
2001 .01
SiO₂/Si₃N₄ 2중층 박막의 유전특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
다결정 Si/SiO₂ ∥ Si 적층구조에서 SiO₂층의 두께에 따른 유전특성의 변화
한국표면공학회지
2000 .08
Dielectric Barrier Discharge type 대기압 플라즈마 발생장치를 이용한 SiO₂ 식각에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
고분자전해질 연료전지용 Cu/Cr기 금속분리판의 내식성에 미치는 표면질화처리 효과
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2006 .11
Growth and Analysis of Intermediate SiO2 for the CeO2 / SiO2 Structure
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
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