전자-빔 Lithography 근접효과에 대한 노출강도 분포의 최적화법 ( Optimization of EID Function for Proximity Effect in Electron Beam Lithography )

손상희; 곽계달

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자료유형: 학술저널

저자정보: 손상희 곽계달

저널정보: 대한전자공학회 전자공학회지 전자공학회지 제22권 제5호

발행연도: 1985.9

수록면: 87 - 92 (6page)

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