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Sub 2-Micron CMOS 개발
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
다층 배선 기술의 문제점 및 동향
전자공학회지
1990 .08
다층 배선 공정기술 및 향후 동향연구
[ETRI] 전자통신동향분석
1991 .09
배선 기술 동향
전자공학회지
2001 .08
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
Novel Model and Protection Technique for Charged Device Model in Half-Micron CMOS Process
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Damascene 공정을 이용한 Sub-Micron 다층 Cu 배선 제작
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
DAmascene 공정을 이용한 Sub-Micron 다층 Cu 배선 제작 ( Fabrication of Sub-micron Multi-Level Cu Interconnections Vias Using DAmascene Process )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
CMOS표준 셀 자동 배치 배선 시스템의 개발 ( Development of Automatic Placement and Routing System for CMOS Standard Cell )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
통합 배선 시스템
전기의세계
1994 .10
0.5μm에 대응하는 평탄화 기술의 현황과 과제
전자공학회지
1990 .08
CMOS 게이트에 의해서 구동 되는 배선 회로 압축 기술 ( A Compression Technique for Interconnect Circuits Driven by a CMOS Gate )
전자공학회논문지-SD
2000 .01
연산회로 최적화를 위한 배선의 재배열
한국정보과학회 학술발표논문집
2002 .04
배선 회로 해석을 위한 CMOS 게이트의 구동 특성 모델 ( CMOS Gate Driver Model For Interconnect Circuit Analysis )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
배선 회로 해석을 위한 CMOS 게이트의 구동 특성 모델
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
Fabrication of inorganic long micron/sub-micron tubes using fibrous polymers as templates
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .04
1 Gbit급 다층 Cu 금속 배선제작에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
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