Nickel Silicide Nanowire Growth and Applications

Joondong Kim

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

60 ㎚ 와 20 ㎚ 두께의 수소화된 비정질 실리콘에 따른 저온 니켈실리사이드의 물성 변화

김종률 ,  박종성 ,  최용윤 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2008 .11

Thermally stable contact of Nickel Silicide between metal and GaN

지창순 ,  박승호 ,  박창수 외 8명

한국진공학회 학술발표회초록집

1998 .02

Effect of Surface Roughness on the Formation of Low Resistance Ni-Silicide from Atomic Layer Deposited Nickel Film

방진배 ,  강희성 ,  하종봉 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Ti Capping Layer에 의한 Co - silicide 박막의 형성에 관한 연구

김해영 ,  김상연 ,  고대홍 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .02

p - Si0.83Ge0.17 / Si(001)기판위에 Si capping layer를 이용하여 형성시킨 nickel silicide의 전기적 및 구조적 특성

장치환 ,  신동욱 ,  이내응 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

CMOS 소자 응용을 위한 Plasma doping과 Silicide 형성

최장훈 ,  도승우 ,  서영호 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Co-Deposition법을 이용한 Yb Silicide/Si Contact 및 특성 향상에 관한 연구

강준구 ,  나세권 ,  최주윤 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Epitaxial Iron - Silicides on Si(100)

Jin-Ho Oh ,  Sang-Kyun Lee ,  Chong-Yun Pa 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .02

AEM을 이용한 (Ni, Ta) - Silicide 박막의 열적안정성에 관한 연구

이재욱 ,  강한별 ,  양철웅

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Co-Silicide Device Characteristics in Embedded DRAM

Kim ,  Jong-Chae ,  Kim 외 3명

한국결정학회지

2001 .01

[논문(재료)]Ti-silicide 박막 형성시 규소 기판에 이온 주입된 붕소 거동에 대한 SIMS 분석

황유상 ,  백수현 ,  조현춘 외 3명

분석과학

1992 .06

Self - assembled growth of Pt silicide nanowire on Si(100)

임도경 ,  이도현 ,  김세훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

니켈의 국내 유통 현황

이현복

자원환경지질

2008 .01

합금 타겟을 사용한 SOI 기판에서의 Ni-Silicide 연구

김지영 ,  김초롱 ,  임재영 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .02

Various Iron - silicide Formation in Fe / Si Multilayered Films

박주상 ,  이영백 ,  Y. V. Kud 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Preferential Sputtering of Various Tungsten Silicides Studied by XPS

Y. Pa ,  k ,  I. Y. Hwang 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

열처리 온도에 따른 InAs 양자점의 특성변화

최현광 ,  전민현

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .07

Synthesis and Characterization of New Nickel Sulfide Precursor

Sang Chan Lee ,  Bo Keun Pa ,  k 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

Self-Limiting Atomic Layer Deposition of Nickel Oxide and Nickel Sulfide Thin Films : Simultaneous Understanding of ALD Processing & Mechanism

Jaehwan Kim ,  Hyunbae Lee ,  Myeong-Hee Ko 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08