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Photoluminescence chracteristics of SiNx thin film deposited by PECVD at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
TiN 박막제조를 위한 PECVD 공정의 해석적 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
ORGANIC POLYMER THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON AND COPPER BY PECVD METHOD AND CHARACTERIZATION OF THEIR ELECTROCHEMICAL AND OPTICAL PROPERTIES
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
A study for the hybrid low-k polymer thin films by PECVD and their electrical and mechanical properties
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .08
PECVD Synthesis of WS₂ for Hydrogen Evolution Catalysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
PECVD 공정에 의해 제작된 SION박막 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Stabilization of Real-time Thickness monitoring system in PECVD chamber
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
PECVD BPSG Film 형성 및 Flow 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Study on Synthesis and Analysis of Organic-Inorganic Hybrid polymer Thin films by PECVD for Low-k materials
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .02
Diethylzinc를 사용하여 PECVD로 증착한 ZnO 박막의 미세 구조 분석
한국결정학회지
1993 .01
Silicon Thin-film Solar Cell Deposited by Using High Working Pressure Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition System
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Chemical Bonding Structures of Low-k SiOCH films with HMDSO and O₂ precursors deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .02
PECVD를 이용한 결정질 태양전지 표면 반사방지막의 최적화
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Characterization of In-Situ Film Thickness and Chamber Condition of Low-K PECVD Process with Impedance Analysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Synthesis and Characterization of Cyclohexene Polymer Thin Films by PECVD Method.
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
Synthesis and Characterization of Cyclohexene Polymer Thin Films by PECVD Method
한국진공학회 학술발표회초록집
2005 .02
Structural and electronic properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by using PECVD from DMDMS/O₂ precursors
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
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