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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2006년도 춘계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2006.6
수록면
1,449 - 1,454 (6page)

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Recenlty, FIB-CVD processes have being applied to another micro-manufacturing field such as semi-conductor industries, display industries and IT industries etc because it have some features that are available to fabricate the micro 3d shape structure directly and are possible to achieve the more minimum structure size than another machining process.
In this paper, in order to analyze the FIB-CVD mechanism, we tried to suggest two models relating to the concentration effect of the radical of the precursor and the effect of the physically self-bais potential energy difference of its radical.
Finally, we give the conclusion on discussion of the FIB-CVD mechanism suggested and the characteristics of FIB-CVD according to two models through some experiments.
#FIB-CVD(집속 이온빔 증착) #Deposition mechanism(증착 메커니즘) #Concentration effect(농도 효과) #Self-bais potential effect(자자 전위 효과)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 장치 및 메커니즘 특성
3. 실험 결과 및 고찰
4. 결론
후기
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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-550-016798452