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한국생산제조학회 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 한국공작기계학회 2004 춘계학술대회 논문집
발행연도
2004.4
수록면
466 - 471 (6page)

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In focused-ion-beam (FIB) application of micromachining and device transplantation, four kinds of FIB processes, namely FIB sputtering, FIB-induced etching, redeposition, and FIB-induced deposition, are well utilized. As with FIB systems, scanning electron microscopes(SEMs) were extensively used in the semiconductor industry. They are the tools of choice for defect review and providing the image resolution needed for process monitoring. The enhanced capabilities of a dual-column on one chamber system are quickly becoming realized by the nano industry for performing a wide range of application.
#FIB #FE-SEM #nano-fabrication #two-chamber #two-column

목차

Abstract
1. 서론
2. FIB에 의한 가공장치의 구성
3. FE-SEM에 의한 측정장치의 구성
4. 복합나노가공시스템의 구성
5. 결론
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