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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제22권 제5호
발행연도
2005.5
수록면
175 - 180 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2005

FIB를 이용한 마이크로 플라즈마 전극 개발
최헌종 ,  강은구 ,  이석우 외 1명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2005.05 학술저널

2004

마이크로 플라즈마 전극가공을 위한 FIB 연구
최헌종 ,  강은구 ,  이석우 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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The application of focused ion beam (FIB) technology in micro/nano machining has become increasingly popular. Its use in micro/nano machining has advantages over contemporary photolithography or other micro/nano machining technologies such as small feature resolution, the ability to process without masks and being accommodating for a variety of materials and geometries.
In this research, fabrication of micro plasma electrode was carried out using FIB. The one of problems of FIB-sputtering is the redeposition of material including Ga+ ion source during sputtering process. Therefore the effect of the redeposition was verified by EDX. And the micro plasma electrode of copper was fabricated by FIB.
#Micro plasma electrode(마이크로 플라즈마 전극) #FIB(Focused Ion Beam) #Nano machining technology(나노가공기술) #Sputtering

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. FIB 장비 개요
3. 마이크로 전극 가공
4. 결론
후기
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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-555-016811342