플리머 미세가공을 위한 레이저 어블레이션 모델링

윤경구; 방세윤

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자료유형: 학술저널

저자정보: 윤경구 방세윤

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제22권 제9호

발행연도: 2005.9

수록면: 60 - 68 (9page)

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To investigate the effects of beam focusing in the etching of polymers with short pulse Excimer lasers, a polymer etching model of SSB's is combined with a beam focusing model. Through the numerical simulation, it was found that in the high laser fluence region, SSB model considering both photochemical and thermal contribution is considered to be suitable to predict the etched hole shape than a simple photochemical etching model. The average temperature distribution into the substance obtained by assuming 1-D heat transfer is found to be fairly similar to the fluence distribution on the ablated surface. The experimental etching data for polymers are used to give material properties for ablation model. The fitted etch depth curve gives a nice agreement with the experimental data.

#Polymer ablation(폴리머 어블레이션) #Excimer lasers(엑사이머 레이저) #Photochemical etching(광화학 에칭) #Thermal etching(열 에칭)

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