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논문 기본 정보

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학술저널
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저널정보
Korean Society for Precision Engineering International Journal of Precision Engineering and Manufacturing International Journal of the Korean Society of Precision Engineering Vol.5 No.3
발행연도
2004.7
수록면
19 - 25 (7page)

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Pitch measurements of 150 ㎚ one-dimensional grating standards were carried out using a contact mode atomic force microscopy with a high resolution three-axis laser interferometer. This measurement technique was named as the 'nano-metrological AFM'. In the nano-metrological AFM, three laser interferometers were aligned precisely to the end of an AFM tip. Laser sources of the three-axis laser interferometer in the nano-metrological AFM were calibrated with an I2-stabilized He-Ne laser at a wavelength of 633 ㎚. Therefore, the Abbe error was minimized and the result of the pitch measurement using the nano-metrological AFM could be used to directly measure the length standard. The uncertainty in the pitch measurement was estimated in accordance with the Guide to the Expression of Uncertainty in Measurement (GUM). The primary source of uncertainty in the pitch-measurements was derived from the repeatability of the pitch-measurements, and its value was about 0.186 ㎚. The average pitch value was 146.65 ㎚ and the combined standard uncertainty was less than 0.262 ㎚. It is suggested that the metrological AFM is a useful tool for the nano-metrological standard calibration.
#AFM #Calibration #Laser interferometer #Precision measurement #Uncertainty

목차

ABSTRACT
1. Introduction
2. Experimental Setup
3. procedure of pitch value calculation and uncertainty evaluation in measurement
4. Result and Conclusion
Acknowledgement
References

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