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자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제41권 제4호
발행연도
2008.8
수록면
142 - 146 (5page)

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Trivalent ions (Ga, Al, In) doped ZnO films were deposited by DC magnetron sputtering on non-alkali glass substrate at substrate temperature of 300℃. We used the different three types of high density (95%~) ceramic sintered disks (doped with Ga₂O₃; 6.65 wt%, Al₂O₃; 3.0 wt%, In₂O₃; 9.54 wt%). This study examined the effect of different dopants (Ga, Al, In) on the electrical, structural, and optical properties of the films. The lowest resistivity of 5.14×10?⁴ Ω㎝ and the highest optical band gap of 3.74 eV were obtained by Ga doped ZnO (GZO) film. All the films had a preferred orientation along the (002) direction, indicating that the growth orientation has a c-axis perpendicular to the substrate surface. The average transmittance of the films was more than 85% in the visible range.
#TCO #AZO #GZO #ZIO #Magnetron sputtering #Zinc oxide #Ionic radius

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (12)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - 문진욱 / 2007 / RF/DC 동시인가 마그네트론 스퍼터링 방법으로 증착된 ITO박막의 열처리 특성 연구 / 한국표면공학회지 40 (3) : 117 ~ 124 dbpia 2. [학술지(정기간행물)] - J. F. Chang / 2001 / / Thin Solid Films 386 : 79 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - X. Yu / 2005 / / Appl. Surf. Sci 245 : 310 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - N. Ito / 2006 / / Thin Solid Films 496 : 99 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - H. D. Ko / 2005 / / J. Crystal Growth 277 : 352 ~ google schola

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