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대한전기학회 대한전기학회 학술대회 논문집 대한전기학회 전기물성·응용부문회 2006 추계학술대회 논문집
발행연도
2006.10
수록면
107 - 108 (2page)

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In this work, we first applied the chemical mechanical polishing (CMP) process to the planarization of ferroelectric film in order to obtain a good planarity of electrode/ferroelectric film interface. Bi<SUB>3.25</SUB>La<SUB>0.75</SUB>Ti₃O₁₂ (BLT) ferroelectric film was fabricated by the sol-gel method. However, there have been serious problems in CMP in terms of repeatabili ... 전체 초록 보기

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